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          產品中心Products 當前位置: 首頁> 產品中心 > 系統設備 > CVD管式爐
          • CVD管式爐
            時間:2024-03-21生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:5343

            CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產,CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外,現在正在使用在許多行業,包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。

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          • 1200℃雙溫區CVD系統
            時間:2024-03-21生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:5938

            CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產,CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外,現在正在使用在許多行業,包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。

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